芯材芯 CMC TECH
SINCE 2021 · 总部位于苏州

为半导体高端薄膜沉积而生
全自动高真空磁控溅射 PVD 设备

芯材芯(苏州)半导体科技有限公司专注于半导体薄膜沉积设备的自主研发、制造与工艺解决方案, 服务晶圆制造、先进封装、MEMS、光电器件与化合物半导体等领域。

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CMC Polaris 300 PVD 磁控溅射台
2021 年公司成立,总部位于苏州
自主研发设备研发制造 · 软件自研 · 工艺解决方案
6 大产品线PVD 溅射 · 精密清洗 · 真空传送
全流程服务销售 · 技术支持 · 客户现场服务团队
Introduction

关于我们

芯材芯(苏州)半导体科技有限公司成立于 2021 年,专注于半导体薄膜沉积设备的自主研发制造与工艺解决方案。 公司拥有半导体设备研发制造团队、销售团队、技术支持团队和客户现场服务团队,并引进国外半导体专家, 持续提升产品的研发能力和制造能力。

公司与国内外多家优秀半导体企业开展战略合作,在苏州设立半导体薄膜沉积设备研发和生产试验基地。 以高科技研发实力为依托,通过资源整合和优势互补,以科技创新为基点、着眼未来, 致力于为国内半导体薄膜设备和工艺的规模化产业提供服务,助力实现中国"智造强国"的梦想蓝图。

研
研发制造一体化设备研发、电控重构、软件重写全栈自主可控
专
国际专家团队引进国外半导体专家,促进研发与制造能力
合
战略合作生态与国内外多家优秀半导体企业战略合作
基
苏州研发生产基地半导体薄膜沉积设备研发和生产试验基地
Products

产品中心

覆盖磁控溅射 PVD、精密清洗与真空传送三大方向,支持研发、中试与批量量产全场景。

CMC Polaris 300 PVD 磁控溅射台

Polaris 300 PVD 磁控溅射台

CMC POLARIS 300 PVD

高端全自动磁控溅射 PVD 设备,3 溅射腔 + 1 刻蚀腔 + 1 装载腔五腔式结构,超高真空、全自动晶圆传输与视觉对中,面向晶圆制造、先进封装与 MEMS。

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CMC Polaris 200 PVD 磁控溅射台

Polaris 200 PVD 磁控溅射台

CMC POLARIS 200 PVD

面向研发、中试及小批量生产的高精度磁控溅射设备,支持 4/5/6/8 寸硅片及异形基材镀膜,集成 Preclean 预清洗,膜层质量高、缺陷率低。

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CMC Polaris 200 ITO 溅射台

Polaris 200 ITO 溅射台

CMC POLARIS 200 ITO

高性能磁控溅射设备,专为 4/5/6 寸硅片多片同步镀膜设计,是制备高品质 ITO 及透明导电膜的理想平台。

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Nordiko 磁控溅射台

Nordiko 磁控溅射台

NORDIKO SPUTTERING

高精度磁控溅射 PVD 设备,专为半导体及微纳加工场景设计,双靶位结构,预清洗刻蚀与薄膜沉积一体化,适用于小批量量产与科研开发。

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SNOW-JET 全自动 CO₂ 雪花清洗设备

SNOW-JET 全自动 CO₂ 雪花清洗设备

CMC SCJ3000 SNOW-JET

全自动干式 CO₂ 精密清洗设备,微米干冰雪花无损清洗,无需漂洗烘干,支持 4/6/8 寸硅片、SiC、蓝宝石、砷化镓等多种基板。

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VHP 双刀片真空传送机械手

VHP 双刀片真空传送机械手

VHP VACUUM ROBOT

面向 cluster 型多腔室真空平台的双刀片晶圆传送机械手,一次进腔完成取放,兼容 Endura 5500 原有通讯,可原位替换。

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Advantages

核心优势

01 全系统自研升级

电控重构、气路水路换新、软件重写,传输、真空、温控、溅射、控制、数据六大核心系统全面革新。

02 超高真空工艺

极限真空可达 5×10⁻⁸ Torr,膜层纯度高、附着力强,Al / AlSiCu 膜层均匀性 < 3%。

03 全场景覆盖

面向研发、中试与批量量产全场景,支持金属 / 合金 / 氮化物 / 氧化物等多层膜连续沉积。

04 数字化可追溯

全流程工艺数据自动采集与追溯,支持 OPC UA 对接工厂 MES,满足半导体产线数字化管控需求。

Customers

合作客户

国内超过 10 家 FAB / 电子制造客户采用 CMC PVD 溅射薄膜沉积设备,20+ 台设备稳定运行。

士兰微电子 士兰微电子
广芯微电子 广芯微电子
华瑞微 华瑞微
大鹏半导体 大鹏半导体
扬杰电子 扬杰电子
西迪斯(天津)电子 西迪斯天津
海科电力 HyCores 海科电力
SZTG SZTG
CTS CTS
浙江宇芯集成电路 浙江宇芯
江苏晶利恒半导体科技 江苏晶利恒
济南晶恒电子 济南晶恒电子
晶导微电子 曲阜晶导微电子
江阴新顺
Install Base

装机分布

20+ 台 CMC 薄膜沉积设备在全国多个半导体基地稳定运行。

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